SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头(公,自旋转靶头)

广东科晶智达科技有限公司

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型号: SKCC-GZB-X
产地: 广东
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产品介绍

SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头（公、自旋转靶头）适用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形永磁体在靶头上，以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。

产品型号	SKCC-GZB-X（高真空磁控溅射公、自旋转靶头）
产品规格	1寸，SKCC-GZB-1 2寸，SKCC-GZB-2 3寸，SKCC-GZB-3 4寸，SKCC-GZB-4 注：其它尺寸可以订制
主要特点	1、转靶带挡板（可实现每次露出一个工作的靶，避免交叉污染）； 2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布； 3、转靶转速5～60转/分可调； 4、标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配； 5、安装采用标准真空法兰（CF金属密封或Dg胶圈密封可选）； 6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度。
配套电源	1、直流DC；2、射频RF