VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点;若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
产品型号 | VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪 |
主要特点 | 1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计。 2、体积小巧,操作简单,容易上手。 3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。 |
技术参数 | 1、输入电源:220V AC 50/60Hz 2、功率:200W 3、输出电压:500 VDC 4、溅射电流:0-50 mA可调 5、溅射时间:0-120S可调 6、溅射腔体 1)采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2)密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈 7、溅射头&样品台 l)溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚度0.1 - 2.5mm 2)溅射时间1-120S可调 3)仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调。 4)可选购加热型样品台,其最高加热温度为500℃ 5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射 6)最大可制膜的直径为:4英寸(仅供参考,详情请点击) 8、真空系统 l)安装有KF25真空接口 2)数字真空压力表(Pa) 3)此系统可通入气体运行 4)< 1.0E-2 Torr (采用机械泵) 5)< 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵) 9、进气 l)设备上配1/4英寸进气口,方便连接气瓶 2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流 10、靶材 l)靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2)设备标配为铜靶 11、产品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm 净重:20 kg(不包括泵) |
可选 | 1、可在本公司选购各种靶材 对于溅射各种金属靶材,需要摸索最理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考) 靶材种类 | 真空度(Pa) | 溅射电流(mA) | 时间 (s) | 溅射次数 | Au | 31-33 | 28-30 | 100 | 1 | Ag | 31 | 28 | 100 | 1 |
2、可在本公司选购各种真空泵 3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上 |
质量认证 | CE认证 |
质保期 | 一年保修,终身技术支持。 特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 |
使用提示 | l、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜 2、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 3、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 4、超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,(2)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分。 5、等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。 6、制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。 7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射 8、溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射 9、由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。 | | | | | 超声波清洗机 | 等离子清洗机 | 大功率磁控溅射仪 | 蒸发镀膜仪 | |
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警告 | 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。 气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 溅射头连接到高电压。 为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头。 |