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资料名称 Micro Resist电子束及深紫外光刻胶 资料.PDF
资料摘要 德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束及深紫外光刻胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。
资料文件 Micro Resist电子束及深紫外光刻胶 资料.pdf     文件大小：315 KB
发布日期
 2023.07.24立即下载

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