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其它行业专用仪器/仪表 >> 化学气相沉积系统(CVD)
快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV
快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV图片
型号: RTP-1000-F3LV
产地: 广东
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型号:RTP-1000-F3LV
产地:广东
产品介绍

快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3″ )的退火而设计,配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外灯进行加热,最快升温速度可达 100℃/s,配有RS485 接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

产品型号

快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要。

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、双层Al2O3纤维钢构,无需水冷或风冷。

2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

3、PID控制器 ,可以设置30段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。

4、已通过CE认证。

技术参数

1、电源:单相208V-240V AC 50/60Hz 9KW

2、石英管:外径Ø110mm,内径Ø103mm,长380mm

3、加热元件:红外灯管,直径Ø10mm,长300mm

4、加热区:300mm

5、工作温度:最高温度1100℃

6、控温精度:±0.5℃

7、最高升温速度:RT-800℃时为50℃/s,800℃-1000℃时为10℃/s

8、温控仪:可控硅(SCR)PID自动控制

9、真空法兰:不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温O型圈密封,长时间在>900℃条件下运行必须采用水冷,循环水流量为0.5m3/hr

10、真空度:10-3torr

11、流量计:3个,量程40cc/min-400cc/min,精度4%FS

产品规格

尺寸:炉体760mm×330mm×530mm,真空混气系统600mm×600mm×597mm

重量:炉体45kg,真空混气系统30kg

可选配件

防腐型数字式真空显示计

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