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真空区熔炉
真空区熔炉图片
设备产地:国产设备
产品介绍

产品特点 :

    1、移动的升降系统采用伺服电机、高减速比行星减速机和精密线性模组驱动,可以实现超低速运行和大范围的无极调速,此系统具有很高的平稳性、可靠性;电机声音及振动极小、转速稳定且可监控。 

    2、加热系统可采用电阻式加热也可采用感应式加热,用于晶体生长的设备一般采用高精度直流电源加热系统,区熔提纯根据具体使用情况有电阻式加热和感应式加热两种。 

    3、本系列设备具有断水、漏气、限位等报警及相应处理,使用安全,不需要人员实时监控,可长时间连续使用。 

    4、本系列设备可根据用户需求设计炉膛大小和内部分布尺寸并可进行高、中、低档的灵活配置、即可采用触摸屏全自动控制也可采用全手动和控温表程序控温生长;本设备还可配置独立的水冷循环系统,适合学校和研究机构使用。

主要用途 :

晶体生长或区熔提纯,可在真空、常压、高压、保护性气氛状态下使用,适用多种晶体的生长及物质的提纯。

技术参数 :

升降速度1-200mm/天;5-1000mm/天;50-10000mm/天规格尺寸
最高温度1300℃、1700℃、1900℃、2200℃控温精度±2℃、±1℃、±0.1℃
压升率0.33Pa/h、0.67Pa/h、1.3Pa/h、2Pa/h压力
极限真空5×10-4Pa-6.67×10-3Pa(扩散泵);3×10-6Pa-1×10-4Pa(分子泵)


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