嘉仪通RTP4吋快速退火炉采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(4英寸样品)快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到**的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。
150℃/s
1200℃→400℃:
裸片600℃/min(双石墨盘130℃/min)
400℃→100℃:
裸片20℃/min(双石墨盘10℃/min);
(氮气吹扫)
±0.5℃(RT-1000℃)
±1℃(1000-1200℃)
≤1.5% 设定温度
≤3% 设定温度
≤5% 设定温度